光刻胶概念股变吞金兽让机构减仓忙,再说南大光电与上海新阳

过去10个月,上海新阳(300236.SZ)股价由最高的84.3元下跌至36.5元,年初至今下跌25.95%;南大光电(300346.SZ)股价由最高的52.18元下跌至27.78元,也即将腰斩。去年四季度到今年一季度,国泰芯片ETF等多只主题类ETF均忙着减仓,毕竟面对这两个吞金兽,再多的钱也糟蹋不起了。不过从年报披露的信息来看,两家企业在关键的光刻胶均取得可喜的进展。

未来国产高端光刻胶的放量,国产化率的提升,也将驱动公司业绩向上。上海新阳2020年业绩有喜有忧:营收6.94亿元,同比增长8.25%;归母净利润2.74亿元,同比增长30.44%;扣非归母净利润0.47亿元,实现扭亏为盈。按产品拆分营收,电子化学材料营收2.78亿元,同比增长30.90%;电子化学材料配套设备实现营收0.38亿元,同比下降27.48%;涂料品营收3.69亿元,同比下降0.38%;其他业务营收0.11亿元,同比增长42.04%:上海新阳的业务分为集成电路制造及先进封装用关键工艺材料及配套设备和环保型功能性涂料组成,其中集成电路制造及先进封装用关键工艺材料及配套设备主要包括晶圆制造及先进封装用电镀液及添加剂系列产品、晶圆制造用清洗系列产品、半导体封装用电子化学材料、集成电路制造用高端光刻胶产品系列和配套设备产品等五大类。

说了这么多,听起来也好像好复杂,但实际上在半导体材料领域上海新阳的主要产品是电镀液及添加剂、刻蚀清洗液和光刻胶三大类。在光刻胶领域上海新阳的主要产品有面向逻辑和模拟的I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶和面向存储芯片的KrF厚膜光刻胶以及底部抗反射膜BARC等材料。在电镀液及清洗液领域,上海新阳市国内唯一能够提供面向90-28nm节点超纯电镀液及添加剂的大陆企业,干法刻蚀后清洗液实现了28nm以上节点全覆盖,20-14nm电镀液完成量产测试,实现销售。

在光刻胶领域,2020年上海新阳购买的用于研发KrF和ArF干法光刻胶的光刻机相继进场,ArF干法光刻胶和KrF厚膜胶等相继取得客户端测试结果。不过公司竟然买了ASML的XT1900Gi型浸没式光刻机,将用于ArF浸没式光刻胶的研发,由此可见公司并不满足于现有的成绩,而是立志将深紫外光刻胶进行全覆盖,来个一锅烩。如果叠加已有的电镀液和清洗液,在半导体材料领域上海新阳将形成光刻胶+电镀液+清洗液三大协同的业务格局。

2020年上海新阳研发费用达到0.80亿元,占营收的11.57%;研发人员161人,同比去年增加29人,研发人员数量占比也达到26.35%。

2020年南大光电实现营收5.95亿元,同比增长85.13%;归母净利润0.87亿元,同比增长58.18%;扣非归母净利润0.02亿元,同比下降94.25%。除了扣非归母净利润,公司的业绩总体相当亮眼:

公司现有前驱体材料、电子特气和光刻胶及配套材料三大半导体材料,而且三大材料均处于国内领先水平。

MO源是制备LED、新一代太阳能电池等的核心原材料,公司作为全球重要的MO源供应商,不仅实现了国产替代,还实现了对外销售。不过MO源的市场规模比较小众,这也是过去很多年南大光电做不大的原因。前驱体业务是用于化学气相沉积工艺的重要材料。

南大光电现有的前驱体是ALD前驱体和CVD前驱体,可用于原子层气相沉积和化学气相沉积,已经具备小批量供货能力。南大的电子特气主要有氢类和含氟特气两种,前者比如磷烷、砷烷等可用于关键的离子注入工艺,三氟化氮和六氟化硫等则是干法刻蚀必须的关键材料。

在光刻胶方面,南大光电主要从事ArF干法和浸没式光刻胶,可用于90-14nm节点。

2020年12月公司自主研发的ArF光刻胶通过客户验证,成为第一个国产ArF光刻胶。在深紫外光刻胶(KrF、ArF干法和ArF浸没式),公司与上海新阳和未上市的北京科华一起,撑起了高端光刻胶国产化的盘子。不过南大光电与上海新阳一样,光刻胶贡献的业绩很有限,光刻胶业务还是要立足于未来:2020年南大光电研发人员达到136人,研发投入达到2.32亿元,营收占比达到38.98%,研发投入力度前所未有。

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